光刻胶这东西，也在白鹰等的列表中。
“紫外光刻胶，适用于436纳米-365纳米光刻技术，解锁需要一万单位能源。”
“深紫外光刻胶，适用于248纳米-193纳米光刻，解锁需要三万单位能源。”
“极紫外光刻胶，常用于11纳米-14纳米光刻，解锁需要五万单位能源。”
“辐射线光刻胶，用于更高分辨率光刻，需解锁上述所有光刻胶后方能解锁。”
何星舟要用到的，便是极紫外光刻胶，目前世界上最先进的光刻机，也就是极紫外光刻机，它可以制造出3纳米制程的硅基芯片。
又是八万单位能源，何星舟将光刻胶材料技术也解锁掉。
最后，便是最重要的光刻机制造技术了。
光刻机，号称是目前人类工业技术的巅峰作品！以光为刀，在纳米级的尺度上进行雕刻！
世界上最先进的EUV（极紫外）光刻机，拥有超过十万个零件，如果要运输一辆光刻机，需要准备20辆卡车，三架货机，40个集装箱，才能完成运输！
它涉及的种种技术，几乎涵盖所有的工业领域，曾有专家断言，没有一个国家能够独立制造出光刻机！
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